CRF電漿清洗機的控制單元、腔體和真空泵的選擇指南

• 分類：技術支持
• 作者：等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
• 來源：電漿清洗機生產廠家
• 發布時間：2022-11-24
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【概要描述】CRF電漿清洗機的控制單元、腔體和真空泵的選擇指南： ? ? ? ? CRF電漿清洗機廣泛應用于微觀納米清洗、刻蝕、噴涂、接枝化和表面沉積性等場合。通過其處理,能夠改善材料表面的潤濕能力,使多種材料能夠進行涂覆等作業,增強粘合力、鍵合力,與此同時清除有機污染物、油污或油脂。CRF電漿清洗機是依靠利用其活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔等目地。plasma等離子清洗機可用于清洗、刻蝕、活化和表面準備等。等離子體和固體、液體或氣體一樣,是介質的一種狀態,也被稱為物質第四態。對氣體增加充分的能量使之離化便成為了等離子狀態。等離子體的”活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。CRF電漿清洗機是依靠利用其活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目地。 CRF電漿清洗機的結構主要分為三個大的部分組成，分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。 一、控制單元 國內的CRF電漿清洗機，包括國外進口的，控制單元主要分為半自動控制、全自動控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式。而控制單元又分為兩個大的部分： 1）電源部分：主要電源頻率有三種，分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz是需要電源匹配器的。 2）系統控制單元：分三種，按鈕控制（半自動、全自動）、電腦控制、PLC控制(液晶觸摸屏控制)。 二、真空腔體 真空腔體主要是分為兩種材質的： 1）不銹鋼真空腔體。 2）石英腔體。 三、真空泵 真空泵分為兩種： 1）干泵。 2）油泵。